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                  原位激光過程氣體分析儀
                  GasTDL-3100
                  GasTDL-3100原位激光過程氣體分析儀是基于可調諧半導體激光吸收光譜技術(TDLAS)的高性能光學分析儀器,采用對射式設計,可用于工業過程氣體控制;其響應時間快速,在原位式測量中一般以秒計算,避免采樣式測量帶來的時間延遲,可在線及時的反應被測氣體濃度。
                  產品特性
                    • 采用TDLAS技術,被測氣體不受背景氣體交叉干擾
                    • 原位安裝,無需采樣預處理系統
                    • 響應快速(T90≤4s),可實時反應氣體濃度
                    • 實時在線測量,氣體濃度不易失真,測量精度高
                    • 在高溫、高粉塵、高水分、高腐蝕性、高流速等惡劣測量環境下具有良好的適應性
                    • 隔爆防爆設計,安全系數高
                    • 構造簡潔,無可動元件,無損耗元件,免維護
                  技術參數
                  性能參數
                  測量組份 H2S、O2、CO、CO2、CH4*
                  測量原理 TDLAS
                  測試范圍

                  H2S:0 ~ 100ppm,0 ~ 5000ppm

                  O2:(0 5)%VOL (可定制100%)

                  CO:(0 100)%VOL
                  CO2:(0 100)%VOL
                  CH4:(0 20)%VOL
                  精度 ≤±1%F.S.
                  重復性 ≤±1%
                  量程漂移 ≤±1%F.S.
                  分辨率 0.01%VOL
                  響應時間 T90≤4s
                  工作參數
                  防爆等級 Ex d IIC T6 Gb
                  安裝方式 原位安裝
                  環境溫度 (-20~ +60)℃
                  工作電源 24V DC,24W
                  吹掃氣體 (0.3~ 0.8)MPa工業氮氣
                  接口信號
                  通訊 RS485、RS232
                  輸出模式 2路4-20mA輸出
                  3路繼電器輸出

                  *注釋:每套分析儀測量單一組分氣體濃度。

                  *具體參數請以規格書為準,如需獲取更多技術信息,請聯系:027-81628829或info@gasanalyzer.com.cn
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